磁控溅射屏蔽罩起辉

什么是磁控溅射屏蔽罩？

磁控溅射是一种物理蒸发技术，被广泛应用于制造各种金属、半导体和高分子薄膜。在磁控溅射过程中，金属材料通过热蒸发或电子轰击而产生的离子在真空中处于高速运动状态，对周围的材料产生溅射。为了控制溅射过程中的粒子扩散范围，保护产品表面不受污染，需要使用磁控溅射屏蔽罩。磁控溅射屏蔽罩是一种用于保护溅射靶材周围区域的特殊屏蔽部件，可以防止粒子扩散和沉积在保护区域的表面上，这样就可以保证产品表面质量。然而，在使用过程中，有时会出现“起辉”现象。

起辉的原因是什么？

“起辉”是磁控溅射过程的一种异常现象，指的是在喷涂过程中，屏蔽罩表面出现亮光甚至火花现象，通常伴随着由于颗粒漏出而导致的产品表面缺陷。起辉是因为电子轰击所造成的，当靶材表面污染或者沾上气体时，气体分子会被电子俘获，从而释放出电子。这些电子撞击在磁控溅射屏蔽罩表面上时就会引起起辉。此外，如果靶材表面含有氧化物或硅酸盐等有机污染物，它们在电子轰击下也会产生挥发性物质，在屏蔽罩表面形成一层暂时的绝缘层，会导致局部电势增高，从而形成电晕放电和起辉现象。

如何避免磁控溅射屏蔽罩起辉？

为了避免磁控溅射屏蔽罩起辉，我们可以在以下几个方面加强管理： 1.清洗屏蔽罩：使用专用清洗液清洗屏蔽罩，清除靶材表面的污染物，防止污染物在电子轰击下产生挥发性物质，形成绝缘层。 2.提高真空度：提高真空度可以减少气体分子碰撞电子的机会，从而减少气体分子释放的电子数量，使起辉现象降低。 3.控制电子轰击过程：采用更加软化的电流脉冲和电压，避免产生过热现象，从而减少或避免在靶材表面产生气体化的污染物。 4.定期更换屏蔽罩：磁控溅射屏蔽罩的使用寿命是有限的，适当定期更换屏蔽罩可以减少污染物的积累，避免起辉现象。 综上所述，起辉是磁控溅射过程中的一种异常现象，会导致产品表面缺陷，因此需要在工作中严格管理，采取有效措施，如清洗屏蔽罩、提高真空度、控制电子轰击、定期更换屏蔽罩等，以降低磁控溅射屏蔽罩起辉的发生。