磁控溅射 屏蔽罩的作用-磁控溅射中磁场的作用

磁控溅射屏蔽罩的作用

磁控溅射技术是一种新型的表面处理技术，它已经被广泛应用于各种工业领域。在磁控溅射过程中，溅射材料要经过一段高能量的电弧锥等离子体区域，然后以电子轰击为主要作用的方法被弹出。而磁控溅射屏蔽罩则是这个过程中非常重要的一个组成部分，它扮演着屏蔽磁场、加热和辐射的重要角色，同时还可以保护溅射源和其他附件设备。

屏蔽磁场

磁控溅射屏蔽罩最重要的作用就是屏蔽磁场。在磁控溅射技术中，磁场是非常重要的一部分，磁场的主要功能是分散电弧并为离子提供靶材料。但是，磁场也会对其它设备产生干扰。磁控溅射屏蔽罩的一个主要作用就是通过特殊设计的形状和材料来屏蔽周围的磁场。这可以避免磁场对其它附件和设备产生的干扰。

加热和辐射的作用

另一个磁控溅射屏蔽罩的作用是保证加热和辐射负载的正确性。在磁控溅射过程中，溅射材料的加热和辐射是非常关键的一步。在深空探测器和模拟太空环境的机构中，舱内的真空负载环境非常苛刻，需要在确定的时间段内对工件进行烘烤加热。磁控溅射屏蔽罩对电子和光线能够实施强有力的过滤和过渡，能够很好地保证加热和辐射负载的正确性。

保护设备和工人

最后，磁控溅射屏蔽罩还能够保护溅射源和其它设备，以及工人的安全。磁控溅射屏蔽罩在整个磁控溅射过程中起到非常重要的保护作用。磁控溅射的过程中，存在很多的高温、高压、高能电流，并且可能会产生放射性污染。经过特殊设计的磁控溅射屏蔽罩可以对这些环境因素进行隔离，保护附件设备、工人和工作环境。因此，磁控溅射屏蔽罩是维持磁控溅射过程的健康安全、美观的前提和保证。